Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE)

Organisme

École Polytechnique

Adjudicataire

Plasma-Therm, LLC

Valeur

1.2 M$

Date d'attribution

28 mars 2024

Date de fin

2 avril 2024

Numéro SEAO

DS-235546

Description

Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE) - Contrat de gré à gré

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